你可能不知道，芯片是洗澡洗出來的。在芯片制作的過程中，光刻機是非常重要的一個設備，沒有光刻機將無法正常生產芯片，而光刻機在全球都是壟斷地位的。雖然光刻機如此重要，但是，沒有它也造不出芯片。

　　芯片的制造條件十分苛刻，芯片制造有上千道工序，即使保證每道工序的良品率是99%，那么在上千道工序的累計下，芯片的總良品率一定會慘不忍睹。所以，在芯片制造的過程中，有30%的時間都在做一件事情，就是“洗澡”，專業名詞叫濕法清洗。

　　當然，給芯片清洗的水不能是自來水，因為自來水里的金屬離子會影響硅片的閾值電壓，溶解氣體會干擾硅片的氧化覆膜，細菌有機物會導致硅片短路漏電。因此，需要用超純水對芯片進行清洗。

　　清洗步驟貫穿芯片制造過程中的許多工藝環節。清潔技術將持續到芯片開發完成為止。早在20世紀50年代，半導體制造業就開始關注清洗技術，其重要性將越來越高，市場需求將越來越大。隨著工藝技術的進步，光刻和各種工藝的數量激增，清洗步驟的數量也增加了。根據統計數據，80nm～60nm工藝清洗步驟約100個，20nm～10nm工藝清洗步驟200多個。由此可見，超純水對芯片來說是多么重要。

　　全自動雙級反滲透+EDI超純水系統+拋光混床是目前常用的超純水處理技術，EDI超純水系統是超純水生產設備的重要組成部分。到目前為止，一些廠家仍然使用混床生產超純水。混床超純水系統優點是前期投資少。但是，EDI超純水系統的突出性能優勢是無法替代的。與混床相比，在相同流量處理能力的情況下，EDI超純水系統占地面積要小得多，約為混床的1/10。這種對用戶友好的設計是通過消除巨大的再生存儲和廢水中和系統來實現的。